第(2/3)页

    其难度，在于分辨率。就如相机，几百万像素你可能觉得可以了。而光刻机要达到几十亿像素，这就难了吧？”

    郑国霖点点头，这个他能听懂。可接下来，他又听不懂了。

    “如何把更多的二极管集中在更小的晶圆上，让芯片实现更为复杂的远算功能。”尼尔森说，“就相当于把一张只能容纳几百万像素的照片，变成可以容纳几十亿，甚至上百亿像素的照片。

    就是说，让单位面积的晶圆上，尽量容纳更多的二极管。

    现在市场上的光刻机，都是步进式进给，浸入式刻法，其理论最小线路宽度，在7nm以上。能做到32nm，已经是兰光公司的极限了。而asml，已经将这个技术，发展到了16nm。但他们也进入了极限状态，很难有任何提高了。”

    郑国霖一脸懵逼。

    尼尔森看到了他迷惑的眼神，不由微微笑一下说：“我没说任何专业术语，你还是听不懂，对不对？”

    这还不是专业术语呢？

    尼尔森就闭眼想想说：“好吧，我换一种说法。兰光公司的这个浸入式设备，已经面临淘汰，迫使他不得不投入很多的资金和人才，来研究euv光刻机。而据说这个技术，asml已经有了突破。”

    “等等。”郑国霖打断她问，“什么叫euv？”这个词他听着耳熟。

    尼尔森回答说：“就是极紫外光。你知道，光波越短，越容易被吸收掉。这样，最终通过掩膜投影到晶圆镀膜上的光线，就很难达到要求的强度。但越短的光波，分辨率就越好，可以在单位面积晶圆上，制造更多的二极管。

    这个极紫外光，理论上可以达到3nm的线路宽度。当然了，这里面又要牵扯摩尔定律，就不和你解释了，你只是听就可以了。”

    郑国霖心说，我听也得能听明白啊？得，死记硬背吧，回去鹦鹉学舌跟专家学一遍，看里面有没有有用的东西。

    就听尼尔森继续说：“浸入式技术，刻录的光线需要经过一层水膜，光线损失很大，无法和euv联合使用，这是个遗憾。所以浸入式光刻机，在不久的将来，是要被淘汰掉的。

    兰光公司深知这一点，这是他们不惜成本，全力以赴攻关euv光刻机的根本原因。可惜，到现在为止，他们还是不能投入实际运用。”
    第(2/3)页