第一三三章 浸润式缩影技术-《大国芯工》


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    想到此,村上点点头,说道:“王桑,我想您的建议任天堂会感兴趣的,只不过我有一个疑问,那就是1.5微米的生产工艺是满足不了显示芯片的加工要求的……”

    王岸然耸了耸肩膀,你中村只要弄来生产线就可以了,显示芯片送给你都无所谓,毕竟未来的趋势是全架构流处理器设计,跟你们的芯片生产线一样,落后的东西,在主家看来,根本没有外人想的那么重要……

    …………

    1.5微米,如果能弄来1.5微米的生产线,华芯科技在辅助芯片上完全可以自产,甚至可以供应国内的单片机生产。

    即便是江燕的解码芯片和嵌入式系统芯片也没有问题。

    完全可以投入即产生价值。

    当然,这条生产线也可以用来教学、研究。

    王岸然看着桌上的水杯,他甚至有了更大胆的尝试,如果在1.5微米工艺上实现侵润式微影技术,会有什么表现。

    所谓浸润式微影技术,就是在晶圆上泼上一层特定厚度的水膜,当光线透过水膜时,会发生折射,从而将原本较大的投影,缩小30%到40%,带来的显著变化就是制造工艺的显著提升。

    这项技术在八十年代就已经开始研究,不过研究人员发现,水泼在晶圆上,可能会带来无法意料的后果,而且水中的气泡会严重影响晶圆芯片成品率。

    加上这段时间,国际上对光源的发展突飞猛进,光线的波长很快发展到192纳米,已经可以满足缩影的需要,此刻,对浸润式缩影技术没有这么大的迫切需求。。

    所以这项技术的研究,一直被停滞,知道2000年之后,才被拾起来。

    这段时间已经够漫长。

    华芯科技想要弯道超车,不耍点手段可不行。

    浸润式缩影技术是未来的发展方向,相比于光刻机,难度无疑小了很多。

    王岸然在第一批和清大的合作中,就批出巨额的资金,用于研究水以及其他液体,在各种波长下光线的折射现象,测量数据的精度要求在小数点第六位。

    同时在水膜形成以及消除气泡上,进行深入研究。
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